Products List 製品一覧(リワーク/リペア装置)
リワーク/リペア装置の製品一覧
全 322 件 見つかりました。
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
イミュニティ対策システム (E1 set)
開発段階でプリント基板の EMI 抑制に使用される EMC ツールのセット
E1 セットを使用して、バーストおよび ESD 干渉の原因を迅速に特定できます。ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
磁場プローブ (MS02)
テスト対象デバイス内の強磁場を測定するために設計
妨害電流の経路を検出可能ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
Eフィールドソース (ES08D)
IC ピンまたは導体の感度を決定するために使用されるプローブ チップ
テスト中、プローブ チップはピンまたは導電パスに接着されます。ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
Eフィールドソース (ES05D)
高性能Eフィールドソース ES05D
導電パス、小型コンポーネントとそのコネクタ、ワイヤ、抵抗器やコンデンサなどの単一の SMD コンポーネントに配置するのに適しています。ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
バーストジェネレーター (SGZ21)
SGZ 21 バースト ジェネレータは、浮遊するパルス状の妨害波を生成
アセンブリ内で直接、またはテスト対象デバイスのフィールド ソースを介して間接的に、構造部品、ケーブル、シールド、接地接続に部分的に結合できます。ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
磁場源 (BS02)
レイアウト内の弱点を特定するために設計
直径 5 cm を超える B フィールド バンドルを生成し、ハウジングの表面と内部領域、接続技術、および導電パス構造と IC を備えたアセンブリの広範囲のパルス化に最適ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
磁場源 (BS04DB)
レイアウト内の弱点を特定するために設計
直径 5 cm を超える B フィールド バンドルを生成し、ハウジングの表面と内部領域、接続技術、および導電パス構造と IC を備えたアセンブリの広範囲のパルス化に最適ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
磁場源 (BS05D)
レイアウト内の弱点を特定するために設計
直径 5 cm を超える B フィールド バンドルを生成し、ハウジングの表面と内部領域、接続技術、および導電パス構造と IC を備えたアセンブリの広範囲のパルス化に最適ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
磁場源 (BS05DU)
ミリメートル範囲の磁場を生成
結合クランプのように機能し、単一の導電パス、IC ピン、SMD コンポーネント、および細いケーブル (フラット リボン ケーブル) 内の妨害電流を選択的に結合するのに使用されます。ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
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ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
Eフィールドソース (ES00)
アセンブリへの妨害電流の結合にも使用可能なEフィールドソース
大きな (150 cm²) 電気結合、またはフィールド ソース ヘッドのエッジも直線状である電気結合を可能にします。ウェーブクレスト株式会社 ｜最終更新日：2025/01/15
